Detailansicht

Acronym

AVeSH

Titel

Eine neue Bedrohung der stratosphärischen Ozonschicht durch antropogene kurzlebige Halogenverbindungen

Kurzbeschreibung

Die stratosphärische Ozonschicht bietet der Erde einen wirkungsvollen Schutzschild gegen den schädigenden Anteil der solaren Strahlung. Der anthropogene Ozonabbau, verursacht durch Emissionen von langlebigen Fluorchlorkohlenwasserstoffen (FCKWs), war eines der größten Umweltprobleme der letzten Jahrzehnte. Emissionen von FCKWs wurden infolge des Montrealer Abkommens von 1987 stark reduziert und eine langsame Erholung der Ozonschicht wird im Laufe der nächsten Jahrzehnte erwartet. Im Gegensatz dazu werden die Emissionen von sehr kurzlebigen Halogenverbindungen (Very Short-Lived Halocarbons, VSLH), welche auch stratosphärisches Ozon zerstören, aufgrund von neuen Technologien ansteigen. Chemische Oxidationsprozesse in der marinen Umwelt, insbesondere die neuartigen Behandlungsverfahren von Ballastwasser, und anwachsende tropische Makroalgenkulturen beeinflussen biogeochemische Kreisläufe und können zu einem starken Anstieg der VSLH Produktion und Emission führen. Zusätzlich zu ihrem schädlichen Effekt auf die Ozonschicht, beeinflussen VSLH den atmosphärischen Strahlungsantrieb und das Vermögen der Atmosphäre viele natürliche und anthropogene Spurenstoffe zu entfernen (atmosphärische Oxidationspotential). Momentan ist nur sehr wenig über die zukünftig zu erwartenden anthropogenen VSLH Emissionen aus dem Ozean sowie ihre bedrohliche Wirkung auf die Atmosphäre bekannt. Fundierte wissenschaftliche Untersuchungen zu diesem Thema sind Inhalt der Emmy Noether-Gruppe ‘Eine neue Bedrohung der stratosphärischen Ozonschicht durch anthropogene kurzlebige Halogenverbindungen‘.

Start

November 2015

Ende

Oktober 2020

Bewilligungssumme (gesamt)

1230000

Bewilligungssumme (GEOMAR)

1230000

Zuwendungsgeber / Programm

DFG / Emmy Noether-Programm

Koordination

Helmholtz-Zentrum für Ozeanforschung Kiel (GEOMAR), Germany

Kontakt

Susann Tegtmeier